بهینه‌سازی پارامترهای مؤثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی‌تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن

با توجه به مشکل‌ساز بودن دفع مستقیم پساب دارای آنتی‌بیوتیک‌ها به محیط زیست و بروز مشکل‌ های جدی در محیط همانند مقاومت ژنتیکی، تصفیه پساب این صنایع از اهمیت ویژه ‌ای برخوردار است. در این پژوهش افزون بر بررسی تصفیه‌پذیری یکی از پرمصرف‌ترین آنتی‌بیوتیک‌ها، اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره ‌های آهن، قابلیت اکسایش و فتوکاتالیستی لایه آهن اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره‌های آهن نیز بررسی شد. ابتدا پارامترهای مؤثر در حذف اکسی‌تتراسایکلین توسط فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری بررسی و بهینه شدند که طبق نتیجه‌ های به دست آمده در شرایط بهینه، از نانو ذره‌ های آهن با غلظت mg/L 1000 برای حذف mg/L 155 اکسی‌تتراسایکلین در pH برابر 3، تابش UV با توان W 200 در مدت زمان 5/6 ساعت استفاده شد که مقدارهای حذف در طول موج‌های 290 و 348 نانومتر، TOC و COD به ترتیب 87، 95، 85 و 89 درصد به دست آمدند. پس از گذشت 14 ساعت، میزان همه این پارامترها بیانگر تجزیه کامل اکسی‌تتراسایکلین بود. همچنین طبقنتیجه آنالیز XRD ، FeO و FeOOH ، لایه اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره‌ ها شناسایی شده و اثرهای مثبت فتوکاتالیستی آن در فرایند حذف توسط آزمایش‌های شاهد مورد بررسی قرار گرفت. بررسی اثر جداگانه هوادهی، پرتودهی فرابنفش و اکسایش توسط نانو ذره‌ه ای آهن در تاریکی و مقایسه نتیجه‌ ها با شرایط تلفیقی (نانو ذره‌های آهن در مجاورت تابش فرابنفش) نشان دهنده‌ی برتری فرایند تلفیقی در فرایند حذف بود.